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J-GLOBAL ID:200903014932810936

薄型磁気素子およびその製造方法とトランス

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 志賀 正武 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996270232
Publication number (International publication number):1998074626
Application date: Oct. 11, 1996
Publication date: Mar. 17, 1998
Summary:
【要約】【課題】 本発明は、構成部品が少なく、組立が容易で、全体を成膜装置で製造できて薄型化が可能であり、コイル導体周囲の渦電流発生による損失を少なくできる薄型磁気素子とその製造方法とトランスの提供を目的とする。【解決手段】 本発明は、基体21の少なくとも一方の面に形成されたコイルパターン22と、このコイルパターン22上にコイルパターン22を覆って形成された磁性薄膜23とが具備されてなるものである。また、前記磁性薄膜23が前記コイルパターン22に接して設けられていても良く、前記磁性薄膜23が絶縁膜31を介してコイルパターン22上に形成されていても良い。
Claim (excerpt):
基体の少なくとも一方の面に形成されたコイルパターンと、このコイルパターン上にコイルパターンを覆って形成された磁性薄膜とが具備されてなることを特徴とする薄型磁気素子。
IPC (3):
H01F 17/00 ,  H01F 10/16 ,  H01F 41/04
FI (3):
H01F 17/00 D ,  H01F 10/16 ,  H01F 41/04 C

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