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J-GLOBAL ID：200903014955991598

金属材料表面処理用重合体組成物および処理方法

Inventor： ▲吉▼ 田 昌之 ,  田中 成夫 ,  宮藤 一東望
Applicant, Patent owner： 日本パーカライジング株式会社
Agent (1)： 石田 敬 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994077209
Publication number (International publication number)：1995278410
Application date： Apr. 15, 1994
Publication date： Oct. 24, 1995
Summary：

【要約】【目的】 各種金属材料表面に、耐食性・塗料密着性に優れた重合体含有皮膜を形成する。【構成】 酸性化合物と、下記式(I)の重合体〔X=H,C1-5 アルキル、C1-5 ヒドロキシアルキル、下記式(II)の基など、R1 ,R2 =H,OH,C1-10アルキル、C1-10ヒドロキシアルキル基など、Y1 ,Y2 =H又は下記式(III) 又は(IV)のZ基、R3 〜R7 =C1-10アルキル、C1-10ヒドロキシアルキルなど、重合体分子中の各ベンゼン環の置換Z基数平均値=0.2〜1.0,n=5〜50〕とを含み、pH=2.0〜6.5の水溶液と、金属表面とを接触させる。【化1】

Claim (excerpt)：

下記一般式(I)の重合体:【化1】〔但し、式(I)中、ベンゼン環に結合しているXは、水素原子、ヒドロキシル基、C1 〜C5 アルキル基、C1 〜C5 ヒドロキシアルキル基、C6 〜C12アリール基、ベンジル基、ベンザル基、前記ベンゼン環に縮合して、ナフタレン環を形成する不飽和ハイドロカーボングループ、又は、下記式(II)の基:【化2】を表し、式(II)中のR1 およびR2 は、それぞれ互に独立に、水素原子、ヒドロキシル基、C1 〜C5 アルキル基、又はC1 〜C10ヒドロキシアルキ基を表し、式(I)および(II)において、ベンゼン環に結合しているY1 およびY2 は、それぞれ互に独立に、水素原子、又は下記式(III) 又は(IV)により表わされるZ基:【化3】を表わし、前記式(III) および(IV)中のR3 ,R4 ,R5 ,R6 およびR7 は、それぞれ互に独立に、C1 〜C10アルキル基、又はC1 〜C10ヒドロキシアルキル基を表し、前記重合体分子中の各ベンゼン環に結合している、X,Y1 およびY2 のそれぞれは、他のベンゼン環に結合している、X,Y1 およびY2 のそれぞれと同一であってもよく、又は互に異なっていてもよく、前記重合体分子中の各ベンゼン環における前記Z基の置換数の平均値は0.2〜1.0であり、かつnは2〜50の平均重合度を表す〕、および酸性化合物を含む、金属材料表面処理用重合体組成物。

IPC (8)：

C08L 61/14 LMS ,  B05D 3/10 ,  B05D 5/00 ,  B05D 5/08 ,  B05D 7/14 ,  B05D 7/24 302 ,  C23C 22/07 ,  C08G 8/04 NBW

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 化合物、組成物および使用
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-143139   Applicant：インペリアル・ケミカル・インダストリーズ・ピーエルシー
• 特開平2-000608
  
• 特開平4-066671
  

Cited by examiner (3)

• 化合物、組成物および使用
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-143139   Applicant：インペリアル・ケミカル・インダストリーズ・ピーエルシー
• 特開平2-000608
  
• 特開平4-066671