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J-GLOBAL ID：200903014994155330

ガスハイドレートの生成制御剤およびそれを用いるガスハイドレートの生成制御方法

Inventor： 遠山 昌之 ,  大上 暢子 ,  西田 耕二
Applicant, Patent owner： 三菱レイヨン株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000223534
Publication number (International publication number)：2001187890
Application date： Jul. 25, 2000
Publication date： Jul. 10, 2001
Summary：

【要約】【課題】 ガスハイドレートの生成を阻害する働きと、ガスハイドレートを安定化させる働きを併せ持ち、かつ、ガスハイドレートが生成する環境において腐食防止効果を有するガスハイドレートの生成制御剤およびガスハイドレートの生成制御方法を提供する。【解決手段】 温度120〜170°C、圧力1.33Pa〜1.33×104Paの条件下でアスパラギン酸を、アスパラギン酸1モルあたり2〜5モルのリン酸類の存在下で重縮合させて得たポリスクシンイミドを加水分解することにより得られたポリアスパラギン酸類を有効成分として含有するガスハイドレートの生成制御剤。

Claim (excerpt)：

温度120〜170°C、圧力1.33Pa〜1.33×104Paの条件下でアスパラギン酸を、アスパラギン酸1モルあたり2〜5モルのリン酸類の存在下で重縮合させて得たポリスクシンイミドを加水分解することにより得られたポリアスパラギン酸類を有効成分として含有するガスハイドレートの生成制御剤。

IPC (4)：

C10L 3/00 ,  C08G 73/10 ,  E21B 37/06 ,  E21B 43/00

FI (4)：

C08G 73/10 ,  E21B 37/06 ,  E21B 43/00 A ,  C10L 3/00 Z

F-Term (13)：

4J043PA19 ,  4J043QB06 ,  4J043RA05 ,  4J043RA34 ,  4J043SA05 ,  4J043SA62 ,  4J043SB01 ,  4J043XA01 ,  4J043XA03 ,  4J043XB13 ,  4J043YB08 ,  4J043ZA60 ,  4J043ZB60