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J-GLOBAL ID：200903015011478916
フォトレジストフィルム
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993088038
Publication number (International publication number)：1994273925
Application date： Mar. 22, 1993
Publication date： Sep. 30, 1994
Summary：
【要約】【目的】 蛍光体の分散不良を起こさず常時蛍光体の分散安定性に優れたフォトレジスト層を供給すると共に20μ以上の硬化レジスト層を形成し、パターン形成精度にも優れたフォトレジストフィルムを提供すること。【構成】 蛍光体を含有せしめた感光性樹脂組成物をベースフィルムに積層したフォトレジストフィルム。
Claim (excerpt)：
蛍光体を含有せしめた感光性樹脂組成物をベースフィルムに積層してなることを特徴とするフォトレジストフィルム。
IPC (7)：
G03F 7/004 501
, G03F 7/004 512
, B32B 7/02 103
, C08F 20/20 MMV
, C09K 11/08
, G03F 7/027 502
, H01J 9/22
Cited by examiner (8)
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