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J-GLOBAL ID：200903015023659827
光ヘテロダイン干渉計装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001225253
Publication number (International publication number)：2003042710
Application date： Jul. 26, 2001
Publication date： Feb. 13, 2003
Summary：
【要約】【課題】 高精度な測定が可能となる、また偏光ビームスプリッタの光学薄膜のむらによる影響を受けずに測定することが可能となる光ヘテロダイン干渉計装置を得ること。【解決手段】 光ヘテロダイン干渉計装置において、自動で偏光ビームスプリッタの偏光成分間の漏れ量の分布を測定する装置と少なくとも光軸に垂直面内で任意の位置に偏光ビームスプリッタを移動させることのできるステージ装置を備え、偏光ビームスプリッタ内の偏光分離特性の分布を測定し、偏光分離特性の最も優れた部分に該ステージ装置を用いて偏光ビームスプリッタを位置決めし、偏光成分間の漏れを最小にしたこと。
Claim (excerpt)：
光ヘテロダイン干渉計装置において、自動で偏光ビームスプリッタの偏光成分間の漏れ量の分布を測定する装置と少なくとも光軸に垂直面内で任意の位置に偏光ビームスプリッタを移動させることのできるステージ装置を備え、偏光ビームスプリッタ内の偏光分離特性の分布を測定し、偏光分離特性の最も優れた部分に該ステージ装置を用いて偏光ビームスプリッタを位置決めし、偏光成分間の漏れを最小にしたことを特徴とする光ヘテロダイン干渉計装置。
F-Term (20)：
2F064AA09
, 2F064CC10
, 2F064DD08
, 2F064EE10
, 2F064FF02
, 2F064FF06
, 2F064GG12
, 2F064GG22
, 2F064GG23
, 2F064GG33
, 2F064GG34
, 2F064GG38
, 2F064GG39
, 2F064GG47
, 2F064GG70
, 2F064HH01
, 2F064HH03
, 2F064HH06
, 2F064JJ05
, 2F064KK04
