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J-GLOBAL ID:200903015024683349
塗布乾燥装置、塗布乾燥方法及び其れにより造られた塗布物
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000135726
Publication number (International publication number):2001314798
Application date: May. 09, 2000
Publication date: Nov. 13, 2001
Summary:
【要約】【課題】 溶剤を使用した感光材料及び表示材料の製造を行う場合において、使用されている溶剤の回収効率を上げながらも、乾燥後の塗膜表面の品質を良好に保つための塗布乾燥装置、塗布乾燥方法及び塗膜表面の品質を良好に保った塗布物を提供する。【解決手段】 少なくとも塗布工程及び乾燥工程を有する塗布乾燥装置において、該塗布工程の後に少なくとも2つの、不活性ガス雰囲気下にあり、蒸発した溶剤を回収する機構を有する乾燥工程を有し、該乾燥工程のうち最も塗布工程に近い乾燥工程の乾燥速度は、次の乾燥工程の乾燥速度よりも遅いことを特徴とする塗布乾燥装置。
Claim (excerpt):
少なくとも塗布工程及び乾燥工程を有する塗布乾燥装置において、該塗布工程の後に少なくとも2つの、不活性ガス雰囲気下にあり、蒸発した溶剤を回収する機構を有する乾燥工程を有し、該乾燥工程のうち最も塗布工程に近い乾燥工程の乾燥速度は、次の乾燥工程の乾燥速度よりも遅いことを特徴とする塗布乾燥装置。
IPC (5):
B05C 9/14
, B05D 3/04
, F26B 13/02
, G03C 1/74
, G03C 1/74 351
FI (5):
B05C 9/14
, B05D 3/04 A
, F26B 13/02
, G03C 1/74
, G03C 1/74 351
F-Term (38):
2H023EA01
, 2H023EA05
, 2H123AB00
, 2H123AB03
, 2H123AB25
, 2H123BC00
, 2H123BC01
, 2H123BC10
, 2H123CB00
, 2H123CB03
, 3L113AA02
, 3L113AB02
, 3L113AC28
, 3L113AC35
, 3L113AC45
, 3L113AC46
, 3L113AC49
, 3L113AC64
, 3L113BA32
, 3L113DA01
, 3L113DA21
, 3L113DA24
, 4D075AC02
, 4D075BB24Z
, 4D075BB57Z
, 4D075BB95Z
, 4D075CA47
, 4D075DA04
, 4D075DC27
, 4D075EA05
, 4F042AA22
, 4F042BA11
, 4F042BA19
, 4F042CC07
, 4F042DB36
, 4F042DE04
, 4F042DE07
, 4F042DE09
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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特開昭63-070246
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乾燥装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-064870
Applicant:大日本印刷株式会社
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廃熱兼廃溶剤回収装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-089973
Applicant:西舜司
-
エリスリトール結晶の乾燥法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-190058
Applicant:日研化学株式会社, 三菱化成株式会社
-
特開昭63-070246
-
溶剤含有被処理体の乾燥装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-215183
Applicant:大阪酸素工業株式会社, 大日本印刷株式会社
-
塗布製造装置及びその塗布製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-290589
Applicant:コニカ株式会社
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