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J-GLOBAL ID：200903015051307944

レーザプラズマ用ターゲット

Inventor： 高橋 正雄
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 則近 憲佑
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992059870
Publication number (International publication number)：1993264763
Application date： Mar. 17, 1992
Publication date： Oct. 12, 1993
Summary：

【要約】【目的】ターゲット物質の蒸発を低減し、ターゲット物質の光学系やその他の機器への蒸着を抑え、高繰返し運転に対応できるレーザプラズマX線発生装置用のターゲットを実現する。【構成】ターゲット20は、厚さ0.数μmに薄膜化されたモリブデン、金等のターゲット物質1を、ポリマー等によって作られた帯状で柔軟な支持体2に蒸着して成る。このターゲット20は送り側リード21に巻き付けられている。このターゲット20は受け側リール22によって巻き取られ、レーザ照射面24上を移動する。また、常にターゲット20をレーザ照射面24上に持ってくるため、ガイド23を設けている。レーザを高繰返しで運転する場合、常に新しいターゲット物質1がレーザ照射面24上に供給される。

Claim (excerpt)：

支持体と、この支持体に支えられた薄膜状のターゲット物質によって構成されていることを特徴とするレーザプラズマ用ターゲット。

IPC (3)：

G21B 1/00 ,  H01S 3/00 ,  H05H 6/00