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J-GLOBAL ID：200903015093613468

プラズマX線源

Inventor： 藤崎 久雄 ,  近藤 洋行
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 佐藤 正年 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993342046
Publication number (International publication number)：1995169421
Application date： Dec. 14, 1993
Publication date： Jul. 04, 1995
Summary：

【要約】【目的】 X線放射特性に優れたプラズマX線源を提供すること、特に、簡便な手段により従来より光輝度のプラズマX線源を提供することを目的とする。【構成】 標的に励起エネルギービームを照射してプラズマ状態を形成し、このプラズマ領域から生成されるX線を取り出すプラズマX線源において、前記プラズマ領域から生じたプラズマ光を反射させて再度プラズマ領域に導く反射部材を備えているもの。前記反射部材が、前記プラズマ領域を中心とする実質的な球面鏡からなるか、反射面にX線反射膜が形成されているもの。

Claim (excerpt)：

標的に励起エネルギービームを照射することでプラズマ状態を形成し、このプラズマ領域から生成されるX線を取り出すプラズマX線源において、前記プラズマ領域から生じたプラズマ光を反射させて再度プラズマ領域に導く反射部材を備えていることを特徴とするプラズマX線源。

IPC (4)：

H01J 35/00 ,  G21K 1/00 ,  G21K 5/02 ,  H05G 2/00