Pat
J-GLOBAL ID：200903015101827685
イオンビームによる表面処理方法及びその装置
Inventor：
,
,
,
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
工業技術院大阪工業技術研究所長
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995205332
Publication number (International publication number)：1997031631
Application date： Jul. 18, 1995
Publication date： Feb. 04, 1997
Summary：
【要約】【課題】イオンビーム照射によって材料の表面処理を確実かつ比較的高速で行う方法及びその装置を提供することを主な目的とする。【解決手段】イオンビーム照射により材料の表面を処理する方法であって、材料裏面が実質的に真空下にさらされ、かつ、材料表面がガス雰囲気中にさらされている材料の裏面に、イオンビームを照射することを特徴とするイオンビームによる表面処理方法、及びその装置。
Claim (excerpt)：
イオンビーム照射により材料の表面を処理する方法であって、材料裏面が実質的に真空下にさらされ、かつ、材料表面がガス雰囲気中にさらされている材料の裏面に、イオンビームを照射することを特徴とするイオンビームによる表面処理方法。
IPC (3)：
C23C 14/22
, C23C 26/00
, C23F 4/00
C23C 14/22 F
, C23C 26/00 D
, C23C 26/00 L
, C23F 4/00 C
