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J-GLOBAL ID:200903015122356739

フタロシアニンおよびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 矢野 敏雄 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994178865
Publication number (International publication number):1995070129
Application date: Jul. 29, 1994
Publication date: Mar. 14, 1995
Summary:
【要約】【構成】 式(1):【化1】で示され、上記のMkPcが式(2):【化2】のフタロシアニン核であるフタロシアニン。【効果】 上記フタロシアニンはレーザー源からの電磁放射線を吸収するために有用であり、光学的データ記憶ディスクにコーティングするために、銀行券または小切手の印刷のような機密保護の適用に、リソグラフ印刷板の製造に、または漂白用助剤の洗剤粉末に使用することができる。
Claim (excerpt):
式(1):【化1】で示され、上記式中、MkPcが式(2):【化2】で示されるフタロシアニン核であり、Mが金属原子、クロロ-金属基およびオキシ-金属基または水素原子であり、kがMの1/2原子価の逆数であり、RおよびR1が互いに無関係に有機基であり、R2がHまたは置換または非置換のアルキル基であり、aが平均値15〜8であり、bが平均値1〜8であり、かつa+bが15〜16であるフタロシアニンおよびそのスルホン化された誘導体。
IPC (3):
C07D487/22 ,  C09B 47/20 ,  C09B 47/22
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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