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J-GLOBAL ID：200903015151736419

微粒子状メソポーラスシリカの製造方法

Inventor：
福田 健太郎

About 福田 健太郎

, 
福永 顕治

About 福永 顕治

, 
山下 博也

About 山下 博也


Applicant, Patent owner：
株式会社トクヤマ

About 株式会社トクヤマ


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003203206
Publication number (International publication number)：2005047722
Application date： Jul. 29, 2003
Publication date： Feb. 24, 2005
Summary：
【課題】サブミクロンのオーダーの粒径を有するメソポーラスシリカを、メソ孔の著しい崩壊を伴うことなく、高い歩留りで得ることができ、しかも、通常の粉砕設備を使用して効率よく製造することができる方法を提供する。【解決手段】メソポーラスシリカを、そのメソ孔内に界面活性剤が存在した状態で湿式粉砕する方法であり、特に、水系溶媒中で、界面活性剤の存在下にシリカを析出せしめてメソポーラスシリカを生成せしめた後、その反応液を被処理液として含有されるメソポーラスシリカを湿式粉砕することが好ましい。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
メソポーラスシリカを、そのメソ孔内に界面活性剤が存在した状態で湿式粉砕することを特徴とする微粒子状メソポーラスシリカの製造方法。
IPC (4)：
C01B37/02 ,  B01J20/10 ,  B01J29/035 ,  B01J32/00
FI (4)：
C01B37/02 ,  B01J20/10 A ,  B01J29/035 ,  B01J32/00
F-Term (38)：
4G066AA22A ,  4G066AA22B ,  4G066AC22D ,  4G066AE20 ,  4G066BA09 ,  4G066BA20 ,  4G066CA01 ,  4G066FA36 ,  4G066FA40 ,  4G069AA01 ,  4G069AA08 ,  4G069BA02 ,  4G069BA21A ,  4G069BE02B ,  4G069BE06B ,  4G069EA01X ,  4G069EA01Y ,  4G069EB18X ,  4G069EB18Y ,  4G069FC03 ,  4G069FC09 ,  4G069ZA36 ,  4G073BA04 ,  4G073BA63 ,  4G073BB04 ,  4G073BB05 ,  4G073BB25 ,  4G073BC02 ,  4G073FA10 ,  4G073FB19 ,  4G073FC22 ,  4G073FD12 ,  4G073FD25 ,  4G073GA11 ,  4G073UA02 ,  4G073UA06 ,  4G073UB11 ,  4G073UB47
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (2)

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