Pat

J-GLOBAL ID：200903015157197978

画像形成方法

Inventor： 増田 敏幸
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (4)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002259702
Publication number (International publication number)：2004101596
Application date： Sep. 05, 2002
Publication date： Apr. 02, 2004
Summary：

【課題】本発明の目的は、転写方式による画像形成方法において、仮支持体剥離時の着色感光性樹脂層剥がれと現像時におけるが画素剥がれのない画像形成方法を提供することにある。【解決手段】仮支持体上に少なくとも着色感光性樹脂層が設けられた感光性転写材料を、表面処理された基板の表面に前記着色感光性樹脂層が接するように密着させて積層体を形成する積層体形成工程と、前記積層体から前記仮支持体を剥離する工程と、前記着色感光性樹脂層にパターン露光、現像することによって、前記基板の表面に画素パターンを形成する露光現像工程と、前記現像工程によって形成された前記画素パターンを加熱して硬化させる加熱工程と、を含む画像形成方法であって、前記基板の前記表面処理として予めヘキサメチルジシラザンに接触させることを特徴とする画像形成方法。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

仮支持体上に少なくとも着色感光性樹脂層が設けられた感光性転写材料を、表面処理された基板の表面に前記着色感光性樹脂層が接するように密着させて積層体を形成する積層体形成工程と、前記積層体から前記仮支持体を剥離する工程と、前記着色感光性樹脂層にパターン露光、現像することによって、前記基板の表面に画素パターンを形成する露光現像工程と、前記現像工程によって形成された前記画素パターンを加熱して硬化させる加熱工程と、を含む画像形成方法であって、前記基板の前記表面処理として予めヘキサメチルジシラザンに接触させることを特徴とする画像形成方法。

IPC (3)：

G03F7/38 ,  G02B5/20 ,  G03F7/40

FI (3)：

G03F7/38 501 ,  G02B5/20 101 ,  G03F7/40 501

F-Term (16)：

2H048BA11 ,  2H048BA43 ,  2H048BA45 ,  2H048BA48 ,  2H048BB02 ,  2H048BB42 ,  2H096AA28 ,  2H096BA05 ,  2H096BA20 ,  2H096CA02 ,  2H096CA16 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  2H096JA02 ,  2H096JA04