化粧料

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：藤本昇 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998226712
Publication number (International publication number)：2000053558
Application date： Aug. 11, 1998
Publication date： Feb. 22, 2000
Summary：

【要約】【課題】化粧石鹸、洗顔料、シャンプー、リンス等の化粧料に関し、脱臭効果や抗菌効果が優れているとともに安全性にも優れた化粧料を提供することを課題とする。【解決手段】クマザサの抽出成分又は炭を含有したことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

クマザサの抽出成分又は炭が含有されていることを特徴とする化粧料。

IPC (7)：

A61K 7/48 , A61K 7/00 , C11D 3/382 , A01N 65/00 , A61K 7/075 , A61K 7/50 , C11B 9/00

FI (8)：

A61K 7/48 , A61K 7/00 K , A61K 7/00 U , C11D 3/382 , A01N 65/00 A , A61K 7/075 , A61K 7/50 , C11B 9/00 Z

F-Term (53)：

4C083AA072 , 4C083AA082 , 4C083AA111 , 4C083AA112 , 4C083AA122 , 4C083AB032 , 4C083AB131 , 4C083AB132 , 4C083AB232 , 4C083AB432 , 4C083AB442 , 4C083AB502 , 4C083AC012 , 4C083AC102 , 4C083AC122 , 4C083AC242 , 4C083AC442 , 4C083AC522 , 4C083AC542 , 4C083AC582 , 4C083AC662 , 4C083AC852 , 4C083AD222 , 4C083AD302 , 4C083AD322 , 4C083AD332 , 4C083AD432 , 4C083AD532 , 4C083AD642 , 4C083CC01 , 4C083CC05 , 4C083CC07 , 4C083CC23 , 4C083CC38 , 4C083EE09 , 4H003AB03 , 4H003BA01 , 4H003DA02 , 4H003EA24 , 4H003EA31 , 4H003EB39 , 4H003EB43 , 4H003ED28 , 4H003FA01 , 4H003FA34 , 4H011AA01 , 4H011BA05 , 4H011BB18 , 4H011BB22 , 4H059BC41 , 4H059CA11 , 4H059EA06 , 4H059EA40

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

笹塩と笹塩製品
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-103692 Applicant：児玉美恵子, 清水智子, 和田緑
抗菌性低刺激化粧料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-227494 Applicant：株式会社ノエビア
抗菌性低刺激化粧料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-090485 Applicant：株式会社ノエビア

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