Pat
J-GLOBAL ID:200903015175533152
排ガス浄化システム
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
渡邉 一平
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997158944
Publication number (International publication number):1999005020
Application date: Jun. 16, 1997
Publication date: Jan. 12, 1999
Summary:
【要約】【課題】 炭化水素を吸着するための吸着体を用いた排ガス浄化システムにおいて、HC脱離開始温度が高い吸着体を使用するとともに、その吸着体の温度負荷を低減させて熱劣化を抑制する。【解決手段】 内燃機関の排気管内に、元素の電気陰性度が1.40以上のイオンが少なくとも一種含まれたゼオライトと、Pt、Pd及びRhのうちの少なくとも一種の貴金属が耐熱性無機酸化物に担持された触媒材とをモノリス担体に被覆担持してなる吸着体10を配置し、吸着体10の排ガス流れ方向上流側に、排ガス中の有害成分浄化能を有する触媒成分及び/又は炭化水素吸着能を有する吸着成分をモノリス担体に被覆担持してなる担持担体2を少なくとも一つ配置し、担持担体2の合計体積が0.6l以上である排ガス浄化システム。
Claim (excerpt):
内燃機関の排気管内に、元素の電気陰性度が1.40以上のイオンが少なくとも一種含まれたゼオライトと、Pt、Pd及びRhのうちの少なくとも一種の貴金属が耐熱性無機酸化物に担持された触媒材とをモノリス担体に被覆担持してなる吸着体を配置し、当該吸着体の排ガス流れ方向上流側に、排ガス中の有害成分浄化能を有する触媒成分及び/又は炭化水素吸着能を有する吸着成分をモノリス担体に被覆担持してなる担持担体を少なくとも一つ配置し、当該担持担体の合計体積が0.6l以上であることを特徴とする排ガス浄化システム。
IPC (6):
B01D 53/72
, B01D 53/34 ZAB
, B01D 53/94
, B01J 20/18
, B01J 23/40
, F01N 3/28 301
FI (6):
B01D 53/34 120 D
, B01J 20/18 B
, B01J 23/40 A
, F01N 3/28 301 G
, B01D 53/34 ZAB
, B01D 53/36 103 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
-
排ガス浄化システム及び排ガス浄化方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-158235
Applicant:日本碍子株式会社
-
排ガス浄化用触媒-吸着体及び排ガス浄化方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-153650
Applicant:日本碍子株式会社
-
排ガス浄化装置と方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-250653
Applicant:バブコック日立株式会社
Return to Previous Page