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J-GLOBAL ID：200903015181274525

疎水性シリカ粉体、その製法および電子写真用現像剤

Inventor： 西原 明 ,  中村 章宏 ,  荒川 茂宏
Applicant, Patent owner： 三菱マテリアル株式会社
Agent (1)： 広瀬 章一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993016454
Publication number (International publication number)：1994227810
Application date： Feb. 03, 1993
Publication date： Aug. 16, 1994
Summary：

【要約】【構成】 下記一般式(1) で示されるアミノ置換シラン化合物とオルガノポリシロキサンとで処理された、鉄に対する摩擦帯電量が+100μC/g 超、+700μC/g 以下で、透過率法により測定された疎水化率が60%以上の、疎水性シリカ粉体。一般式(1) : R1SiR23-nR3n上記式中、R1は炭素数1〜10のアミノ置換アルキル基;R2は炭素数1〜5のアルキル基;R3はCl、Brまたは炭素数1〜5のアルコキシ基;nは1〜3の整数をそれぞれ意味する。処理はシリカ粉体を浮遊状態にして行うことが好ましい。【効果】 トナーに流動性改善剤として添加すると、安定した帯電性を持ち、流動性に優れた電子写真用現像剤が得られ、静電荷像をカブリなく鮮明に現像でき、安定した長寿命の現像特性が得られる。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1) で示されるアミノ置換シラン化合物とオルガノポリシロキサンとで処理された、鉄に対する摩擦帯電量が+100μC/g 超、+700μC/g 以下で、透過率法により測定された疎水化率が60%以上である、疎水性シリカ粉体。一般式(1) : R1SiR23-nR3n上記式中、R1は炭素数1〜10のアミノ置換アルキル基;R2は炭素数1〜5のアルキル基;R3はCl、Brまたは炭素数1〜5のアルコキシ基;nは1〜3の整数をそれぞれ意味する。

IPC (2)：

C01B 33/18 ,  G03G 9/08

FI (2)：

G03G 9/08 371 ,  G03G 9/08 374

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭58-216252
  
• 特開昭59-045457
  
• 特開平4-034440
  
• 特開平2-055206