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J-GLOBAL ID:200903015196118872
イオン交換膜の製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995150102
Publication number (International publication number):1997003216
Application date: Jun. 16, 1995
Publication date: Jan. 07, 1997
Summary:
【要約】【目的】ラジカル重合開始剤として10時間半減期温度が高いものを用いることなく、110°C未満の低い温度で重合を実施する簡便な方法によっても、優れた耐久性を有し、過酷な条件下で長期間使用可能なイオン交換膜が得られる方法を開発すること。【構成】(a)イオン交換基を導入可能な官能基またはイオン交換基を有する単量体及び架橋性単量体を含む単量体混合物90.0〜97.0モル%(b)10時間半減期温度が110°C未満のラジカル重合開始剤10.0〜3.0モル%とからなり、好適にはさらにマトリックス樹脂を含有する重合性組成物をポリオレフィン製基材に付着して、110°C未満の温度で重合せしめた後、必要に応じてイオン交換基を導入することを特徴とするイオン交換膜の製造方法。
Claim (excerpt):
(a)イオン交換基を導入可能な官能基またはイオン交換基を有する単量体及び架橋性単量体を含む単量体混合物90.0〜97.0モル%(b)10時間半減期温度が110°C未満のラジカル重合開始剤10.0〜3.0モル%とからなる重合性組成物をポリオレフィン製基材に付着して、110°C未満の温度で重合せしめた後、必要に応じてイオン交換基を導入することを特徴とするイオン交換膜の製造方法。
IPC (3):
C08J 5/22
, B01J 39/20
, B01J 41/14
FI (3):
C08J 5/22
, B01J 39/20 H
, B01J 41/14 D
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
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イオン交換膜の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-114964
Applicant:株式会社トクヤマ
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