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J-GLOBAL ID：200903015232977313
ポリマー光ファイバの屈折率分布型プロフィールを作成するプロセス
Inventor：
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
岡部 正夫 (外11名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000549450
Publication number (International publication number)：2002515615
Application date： Apr. 30, 1999
Publication date： May. 28, 2002
Summary：
【要約】本発明は、ポリマー光ファイバの屈折率分布型プロフィールを作成するプロセスに関する。プロセスは、電離放射線が、例えばPMMAなどの屈折率を増加させるということに基づく。したがって、所与の速度で縦方向に放射線源を通過し、その後、規定の時間長だけ焼き戻す間、ポリマー光ファイバ、プレフォームまたはファイバ・コア・プレフォームを、所定の波長および照射量の電離放射線で照射する。鏡、レンズまたは開口システムによって電離放射線の空間的分布を制御することにより、ファイバの全長にわたって均一な半径方向の屈折率分布型プロフィールが生成され、その結果、光導波管として使用するポリマー・ファイバは、光信号の非常に改良された伝送特性を有する。
Claim (excerpt)：
ポリマー光ファイバに屈折率分布型プロフィールを作成するプロセスであって、 その(1)ポリマー光ファイバまたはプレフォームまたはファイバ・コア・プレフォームが、所与の速度でファイバ中心線(7)に沿って前進する間に、所定の照射量および波長の電磁放射線に露出し、 その(1)ポリマー光ファイバまたはプレフォームまたはファイバ・コア・プレフォームの電磁放射線の強度の空間分布が、光学的要素によって照射長全体にわたって規定され、照射が回転対称であり、 その後、均一な屈折率分布型プロフィールが形成されるよう、照射領域の屈折率が変化するような方法で、その(1)ポリマー光ファイバまたはプレフォームまたはファイバ・コア・プレフォームが、所定の期間、所定の温度で焼き戻されることを特徴とするプロセス。
IPC (4)：
G02B 6/18
, B29C 71/04
, G02B 6/00 366
, B29D 11/00
G02B 6/18
, B29C 71/04
, G02B 6/00 366
, B29D 11/00
2H050AA17
, 2H050AB43X
, 2H050AC05
, 4F073AA32
, 4F073BA18
, 4F073BB01
, 4F073BB11
, 4F073CA42
, 4F213AH77
, 4F213WA53
, 4F213WA83
, 4F213WA86
Cited by applicant (3)
-
特開昭63-033705
-
特開昭57-053709
-
特許第6200503号
Cited by examiner (3)
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特開昭63-033705
-
特開昭57-053709
-
特許第6200503号
Article cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (1)
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