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J-GLOBAL ID：200903015237149966

CVD装置のクリーニング方法

Inventor： 福田 琢也 ,  大塚 道夫 ,  吉岡 健 ,  佐藤 淳二
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995231026
Publication number (International publication number)：1997082645
Application date： Sep. 08, 1995
Publication date： Mar. 28, 1997
Summary：

【要約】【目的】 CVD装置のクリーニングの終点を検出する。【構成】 CVD装置のクリーニングの終点検出をクリーニングに関与するプラズマ種と関与しない種の発行強度比から行う、または、クリーニング中の圧力変化あるいは、プラズマ電位変化から検出する。【効果】 過剰クリーニングによる装置部品の摩耗、過少クリーニングにより発生する、異物発生に基づく歩留まり低下の防止が図れる。

Claim (excerpt)：

CVD装置において、装置内壁の付着物をプラズマを用いてクリーニングする際に、クリーニングに関与しない希ガスを導入しておき、クリーニングの終点を、クリーニングに関与するプラズマ種と該希ガスの発光種の発光強度の相対強度変化から決めることを特徴としたCVD装置のクリーニング方法。

IPC (4)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065

FI (4)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 F ,  H01L 21/302 B