Pat

J-GLOBAL ID：200903015272745628

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 長瀬 恭子 ,  中西 弘俊 ,  鈴木 直子
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993312268
Publication number (International publication number)：1995168354
Application date： Dec. 13, 1993
Publication date： Jul. 04, 1995
Summary：

【要約】【目的】 感度、解像度及び耐熱性等の諸性能に優れ、且つ、スカムのないポジ型レジスト組成物を提供する。【構成】 フェノール類とカルボニル化合物との縮合により得られるノボラック樹脂を含むアルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び一般式(I)【化1】〔式中、R1 〜R3 はそれぞれ独立して水素原子、水酸基、アルコキシ基又はアルキル基等を表わし、R4 は水素原子、水酸基、アルコキシ基又はアルキル基を表わし、m及びnはそれぞれ独立して1〜3の整数を表わす。〕で示されるエステル化合物を含有するポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

フェノール類とカルボニル化合物との縮合により得られるノボラック樹脂を含むアルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び一般式(I)【化1】〔式中、R1 、R2 及びR3 はそれぞれ独立して水素原子、水酸基、アルキルもしくはアルコキシ基又は-NHSO2 R5 を表わし、R5 はアルキル又はアリール基を表わす。R4 は水素原子、水酸基、アルキルもしくはアルコキシ基を表わす。m及びnはそれぞれ独立して1〜3の整数を表わす。〕で示されるエステル化合物を含有するポジ型レジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/027