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J-GLOBAL ID：200903015349196312

高周波誘導加熱炉

Inventor： 鎌田 功穂 ,  土田 秀一 ,  泉 邦和
Applicant, Patent owner： 財団法人電力中央研究所
Agent (1)： 大塚 学
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996078065
Publication number (International publication number)：1997245957
Application date： Mar. 07, 1996
Publication date： Sep. 19, 1997
Summary：

【要約】【課題】高周波誘導加熱炉の試料付近の温度を高温にすると共に、その雰囲気を高純度に維持し、かつ反応ガス注入時における反応管内壁への多結晶SiCの付着・堆積を防止する。【解決手段】石英管により形成された反応管2内にルツボまたはサセプタなどの加熱処理部1が設置され、反応管2の外周に配置された加熱コイル4に高周波電流を流すことにより、加熱処理部1に供給される試料を加熱する高周波誘導加熱炉において、反応管2内に、加熱処理部1をその内部に設置されるように設けられたシリコンカーバイドにより構成された熱遮蔽管13を備えたものである。

Claim (excerpt)：

石英管により形成された反応管内にルツボまたはサセプタが設置され、前記反応管の外周に配置された加熱コイルに高周波電流を流すことにより、前記ルツボまたはサセプタに供給される試料を加熱する高周波誘導加熱炉において、前記反応管内に、前記ルツボまたはサセプタをその内部に設置されるように設けられたシリコンカーバイドにより構成された熱遮蔽管を備えたことを特徴とする高周波誘導加熱炉。

IPC (4)：

H05B 6/24 ,  F27B 14/16 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/324

FI (4)：

H05B 6/24 ,  F27B 14/16 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/324 D