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J-GLOBAL ID：200903015378852512

2,2-ビス(2,4-ジ-t-ブトキシカルボニルメチロキシフェニル)プロパン及びその誘導体

Inventor： 渡辺 淳 ,  石原 俊信 ,  八木橋 不二夫
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 滝田 清暉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995306557
Publication number (International publication number)：1996245515
Application date： Oct. 31, 1995
Publication date： Sep. 24, 1996
Summary：

【要約】【課題】 3成分系ポジ型レジスト用溶解阻害剤として有効な新規化合物を提供すること。【解決手段】 下記化1で表される2,2-ビス(2,4-ジ-t-ブトキシカルボニルメチロキシフェニル)プロパン及びその誘導体;【化1】但し、化1中のR4 はアルキル基、mは0〜3の整数を表す。

Claim (excerpt)：

下記化1で表される2,2-ビス(2,4-ジ-t-ブトキシカルボニルメチロキシフェニル)プロパン及びその誘導体;【化1】但し、化1中のR4 はアルキル基、mは0〜3の整数を表す。

IPC (4)：

C07C 69/712 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

FI (4)：

C07C 69/712 B ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-358664   Applicant：日本合成ゴム株式会社, 株式会社東芝
• ポジ型感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-299093   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 特開平4-088348