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J-GLOBAL ID：200903015396540331
置換されたインデン類の製造方法およびメタロセン触媒の為の配位子系としてのそれの用途
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
江崎 光史 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992319101
Publication number (International publication number)：1994206890
Application date： Nov. 27, 1992
Publication date： Jul. 26, 1994
Summary：
【要約】 (修正有)【構成】 式IVの化合物または式IVa のその異性体を製造する方法において、式(I)の化合物と式(II)の化合物またはそれの酸無水物と、フリーデル・クラフト触媒の存在下に反応させて相応するインダノン類とし、次に還元または脱水反応によって製造する。【効果】 この方法で製造される化合物(インデン類)は、オレフィン重合の為の適する触媒成分であるキラルなメタロセン錯塩を製造する重要な中間体である。
Claim (excerpt)：
式IVの化合物または式IVa のその異性体【化1】〔式中、R1 、R2 、R3 、R4 およびR5 は互いに同じでも異なっていてもよく、水素原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜14のアリール基、炭素原子数1〜10のアルコキシ基、炭素原子数2〜10のアルケニル基、炭素原子数7〜20のアリールアルキル基、炭素原子数7〜20のアルキルアリール基、炭素原子数6〜10のアリールオキシ基、炭素原子数1〜10のフルオロアルキル基、炭素原子数6〜10のハロゲノアリール基、炭素原子数2〜10のアルキニル基、残基-SiR63であり、その際R6 は炭素原子数1〜10のアルキル基、ハロゲン原子または5〜6個の環員数で一つ以上のヘテロ原子を含有しているヘテロ芳香族残基であり、または隣接残基R1 〜R4 はそれらが結合する原子と一緒に一つまたは複数の環を形成する。〕を製造する方法において、式I【化2】の化合物を式II【化3】の化合物またはそれの酸無水物と、フリーデル・クラフト触媒の存在下に反応させて式III または式IIIa【化4】〔式中、R1 〜R5 は上述の意味を有しそしてX1 およびX2 は互いに同じか異なり、求核脱離基である。〕で表される化合物をもたらし、そしてこれを公知の方法による還元および脱水反応によって式IVまたはIVa の化合物に転化することを特徴とする、上記方法。
IPC (17)：
C07F 17/00
, C07C 1/24
, C07C 13/465
, C07C 13/66
, C07C 17/00
, C07C 22/08
, C07C 25/22
, C07C 41/30
, C07C 43/188
, C07C 43/192
, C07C 43/20
, C07C 43/215
, C07C 43/225
, C07C 45/46
, C07C 49/67
, C08F 4/76 MEZ
, C07B 61/00 300
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