膜形成用組成物および絶縁膜形成用材料

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000052017
Publication number (International publication number)：2001240798
Application date： Feb. 28, 2000
Publication date： Sep. 04, 2001
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】均一な厚さで、塗膜の機械的強度やクラック耐性やCMP耐性に優れ、かつ低比誘電率の塗膜が得られる膜形成用組成物を得る。【解決手段】 (A);R1aSi(OR2)4-a (R1は水素、フッ素、1価の有機基、R2は1価の有機基、aは0〜2の整数)およびR3b(R4O)3-bSi-(R7)d-Si(OR5)3-cR6c(R3,R4,R5およびR6は、1価の有機基を示し、bおよびcは、0〜2の数、R7は酸素または-(CH2)n-基、nは1〜6を、dは0または1を示す。)からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物の加水分解物および縮合物もしくはいずれか一方と、(B);HO-(SiR8R9O)eH(R8およびR9は、1価の有機基、eは2〜100の整数)を含有することを特徴とする膜形成用組成物。

Claim (excerpt)：

(A)(A-1)下記一般式(1)で表される化合物R1aSi(OR2)4-a ・・・・・(1)(R1は水素原子、フッ素原子または1価の有機基を示し、R2は1価の有機基を示し、aは0〜2の整数を表す。)および(A-2)下記一般式(2) で表される化合物 R3b(R4O)3-bSi-(R7)d-Si(OR5)3-cR6c ・・・・・(2)(R3,R4,R5およびR6は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ1価の有機基を示し、bおよびcは、同一でも異なっていてもよく、0〜2の数を示し、R7は酸素原子または-(CH2)n-で表される基を示し、nは1〜6を、dは0または1を示す。)からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物の加水分解物および縮合物もしくはいずれか一方と(B)下記一般式(3)で表される化合物HO-(SiR8R9O)eH ・・・・・(3)(R8およびR9は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ1価の有機基を示し、eは2〜100の整数を示す。)を含有することを特徴とする膜形成用組成物。

IPC (11)：

C09D183/00 , C08G 77/08 , C08G 77/50 , C08K 5/00 , C08K 5/07 , C08L 83/06 , C08L 83/14 , C09D 5/25 , H01L 21/312 , H01L 21/316 , H01L 21/768

FI (11)：

C09D183/00 , C08G 77/08 , C08G 77/50 , C08K 5/00 , C08K 5/07 , C08L 83/06 , C08L 83/14 , C09D 5/25 , H01L 21/312 C , H01L 21/316 G , H01L 21/90 S

F-Term (64)：

4J002CP031 , 4J002CP051 , 4J002EE046 , 4J002FD316 , 4J002GQ01 , 4J002GQ05 , 4J035BA03 , 4J035CA051 , 4J035CA061 , 4J035EA01 , 4J035EB03 , 4J035EB04 , 4J035HA01 , 4J035HB03 , 4J035LB20 , 4J038DL031 , 4J038DL071 , 4J038DL081 , 4J038DL161 , 4J038HA176 , 4J038HA186 , 4J038HA236 , 4J038JA11 , 4J038JA34 , 4J038JA37 , 4J038JA38 , 4J038JA39 , 4J038JA40 , 4J038JB01 , 4J038JB03 , 4J038JB09 , 4J038JB23 , 4J038JB31 , 4J038JC25 , 4J038JC32 , 4J038JC38 , 4J038KA04 , 4J038KA06 , 4J038KA09 , 4J038NA04 , 4J038NA11 , 4J038NA17 , 4J038NA21 , 4J038PA19 , 4J038PB09 , 4J038PB11 , 4J038PC02 , 4J038PC03 , 4J038PC08 , 5F033QQ48 , 5F033RR21 , 5F033SS22 , 5F033SS30 , 5F033TT03 , 5F033XX01 , 5F033XX06 , 5F033XX17 , 5F033XX24 , 5F058AA02 , 5F058AA10 , 5F058AC03 , 5F058AD05 , 5F058AF04 , 5F058AH02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (16)

特開昭55-156330
低誘電率材料、層間絶縁膜及びIC基板
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-008705 Applicant：新日本製鐵株式会社
ジシラン含有オルガノポリシロキサン及びその製造方法並びに表面処理剤及び結合剤
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-143816 Applicant：信越化学工業株式会社

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