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J-GLOBAL ID:200903015450232702

ポジ型フォトレジストの現像方法およびそのための組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 江崎 光史 (外2名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1996522441
Publication number (International publication number):1998512973
Application date: Jan. 19, 1996
Publication date: Dec. 08, 1998
Summary:
【要約】ポジ型フォトレジストを現像するための方法および組成物が説明される。本発明による現像剤は、水酸化アンモニウム水性塩基および最も好ましくは10〜30ppm の量で存在するフッ素化アルキルアルコキシレートの類の界面活性剤を含有する。特に好ましい界面活性剤は、スルホニルおよびアミン部分を含有する。
Claim (excerpt):
ポジ型フォトレジストフィルムの基体を現像する方法において、実質的に水性水酸化アンモニウム塩基およびフッ素化アルキルアルコキシレート界面活性剤を含有する水性塩基現像剤組成物であって、上記界面活性剤が約1〜約250ppmの量で存在する上記現像剤組成物を上記フィルムに適用し、続いて上記現像剤組成物を上記フィルムから洗い流す段階からなる上記方法。
IPC (2):
G03F 7/32 ,  G03F 7/022
FI (2):
G03F 7/32 ,  G03F 7/022
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開昭62-032451

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