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J-GLOBAL ID：200903015459356080

分析位置設定手段を備えた蛍光X線分析方法およびその装置

Inventor： 森 良弘 ,  山上 基行
Applicant, Patent owner： 理学電機工業株式会社 ,  ワッカー・エヌエスシーイー株式会社
Agent (1)： 杉本 修司 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000165537
Publication number (International publication number)：2001343339
Application date： Jun. 02, 2000
Publication date： Dec. 14, 2001
Summary：

【要約】【課題】 被測定物に含まれる汚染物質の量が少ない場合でも、物質の添加や異物検査装置の導入なしに、確実に一次X線照射スポットを決定できる蛍光X線分析方法およびその装置を提供する。【解決手段】 試料ホルダ2に点状に保持された被測定物3に対し、その被測定物3を分析位置に設定して一次X線B1を照射し、この被測定物3から発生した蛍光X線B4を検出する蛍光X線分析方法であって、被測定物3近傍の複数の位置に一次X線B1を照射し、被測定物3によって散乱された散乱X線B2の強度を各位置についてそれぞれ測定し、この散乱X線B2の強度が最大となる位置を前記分析位置に決定する。

Claim (excerpt)：

試料ホルダに点状に保持された被測定物に対し、その被測定物を分析位置に設定して一次X線を照射し、この被測定物から発生した蛍光X線を検出する蛍光X線分析方法であって、前記被測定物近傍の複数の位置に一次X線を照射し、前記被測定物によって散乱された散乱X線の強度を各位置についてそれぞれ測定し、この散乱X線の強度が最大となる位置を前記分析位置に決定する蛍光X線分析方法。

IPC (3)：

G01N 23/223 ,  G01N 1/28 ,  H01L 21/66

FI (4)：

G01N 23/223 ,  H01L 21/66 L ,  G01N 1/28 L ,  G01N 1/28 X

F-Term (33)：

2G001AA01 ,  2G001BA04 ,  2G001BA14 ,  2G001CA01 ,  2G001EA01 ,  2G001EA09 ,  2G001FA06 ,  2G001GA01 ,  2G001GA04 ,  2G001GA06 ,  2G001JA11 ,  2G001JA14 ,  2G001KA01 ,  2G001KA03 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001NA10 ,  2G001NA11 ,  2G001NA17 ,  2G001PA07 ,  2G001RA02 ,  2G001RA03 ,  2G001RA10 ,  4M106AA01 ,  4M106CA29 ,  4M106CB01 ,  4M106DH01 ,  4M106DH25 ,  4M106DH34 ,  4M106DH60 ,  4M106DJ04 ,  4M106DJ17 ,  4M106DJ18