Pat
J-GLOBAL ID：200903015507388208
ブラストシールドを備えるプラズマフォーカス高エネルギフォトン源
Inventor：
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
中村 稔 (外9名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000118724
Publication number (International publication number)：2000346999
Application date： Mar. 15, 2000
Publication date： Dec. 15, 2000
Summary：
【要約】【目的】 本発明は高エネルギフォトン源、特に高信頼性のx線及び高エネルギ紫外線源に関する。【解決手段】 高エネルギフォトン源。一対のプラズマフォーカス電極が真空室の中に設置される。該真空室は貴ガス及び所望のスペクトル線を持つべく選択された活性ガスを含む機能ガスを含む。パルスパワー源は、該活性ガスのスペクトル線を持つ放射を供給する該機能ガス中で、非常に高温高密度のプラズマフォーカスを産生する電極間に、放電を生じるのに十分な高電圧で電気パルスを供給する。該高密度絞り込みの位置のすぐ先に設置されたブラストシールドは、該絞り込みを限定してそれが軸方向に伸長するのを制限する物理的障壁を提供する。ブラストシールドには小さな開口が設けられ、それによって該放射が該シールドを通過することはできるが該プラズマは通過できない。好適な一実施態様では、プラズマに面する該シールドの表面はドーム型である。
Claim (excerpt)：
A. 真空室、B. 前記真空室内に設置され、電気放電領域を規定し、かつ放電上の絞り込み部に高周波プラズマ絞り込みが生じるように配置された少なくとも2つの電極、C. 少なくとも1つのスペクトル線を持つ光を供給するように選択された活性ガス、及び貴ガスである緩衝ガスを含む機能ガス、D. 前記放電領域に機能ガスを供給する機能ガス供給システム、E. 前記少なくとも1対の電極間に放電を生じさせるに十分な電気パルス及び高電圧を供給するパルスパワー源、及びF. 前記プラズマ絞り込みの伸長を制限するように設置された電気絶縁物質からなるブラストシールドを有することを特徴とする高エネルギフォトン源。
IPC (2)：
FI (2)：
Return to Previous Page
