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J-GLOBAL ID：200903015515945752
異物分析装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993095840
Publication number (International publication number)：1994308039
Application date： Apr. 22, 1993
Publication date： Nov. 04, 1994
Summary：
【要約】【目的】 表面に付着した、直径がハーフミクロン以下の極微小な異物の、形状観察及び組成分析手段を提供する。【構成】 レーザー干渉計23により位置の計測制御を行うXYステージ21の動作範囲内に、異物検査装置31と走査型電子顕微鏡41を備える。これにより、異物検査装置で検出した微小異物を電子顕微鏡の超高倍率視野内に追いこむことができる。よって、従来、困難でかつ長時間を要した極微小な異物の観察が、容易かつ短時間で行える。
Claim (excerpt)：
レーザー干渉計により位置の計測と制御を行うXYステージと、前記ステージの動作範囲内に、異物を検出し座標を特定する異物検査装置と、異物を観察し分析する電子顕微鏡を具備し、前記異物検査装置で検出した異物座標をもとに前記ステージにより異物を前記電子顕微鏡の視野内に移動し、異物の観察分析を行うことを特徴とする異物分析装置。
IPC (3)：
G01N 21/88
, H01J 37/02
, H01L 21/66
