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J-GLOBAL ID：200903015537917523

硬化皮膜の形成方法

Inventor： 有島 真史 ,  塩野 輝雄
Applicant, Patent owner： 東洋インキ製造株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998246141
Publication number (International publication number)：2000072982
Application date： Aug. 31, 1998
Publication date： Mar. 07, 2000
Summary：

【要約】【課題】500ppm以上の高酸素濃度下においても、電子線照射により高い表面硬化性を示し、高い硬度の塗膜を与える硬化皮膜の形成方法の提供。【解決手段】2〜6個の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレート化合物および1〜6個のビニルエーテル基を有するビニルエーテル化合物を含む硬化性組成物に、500ppm以上の酸素濃度下において電子線を照射する硬化皮膜の形成方法。

Claim (excerpt)：

2〜6個の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレート化合物および1〜6個のビニルエーテル基を有するビニルエーテル化合物を含む硬化性組成物に、500ppm以上の酸素濃度下において電子線を照射する硬化皮膜の形成方法。

IPC (3)：

C09D 4/00 ,  C09D 5/00 ,  C09D 11/00

FI (3)：

C09D 4/00 ,  C09D 5/00 C ,  C09D 11/00

F-Term (13)：

4J038FA011 ,  4J038FA012 ,  4J038FA081 ,  4J038FA251 ,  4J038FA281 ,  4J038GA01 ,  4J038PA17 ,  4J039AD10 ,  4J039BC12 ,  4J039BE33 ,  4J039EA05 ,  4J039EA36 ,  4J039EA48