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J-GLOBAL ID:200903015539923440
支持された触媒成分、支持された触媒、製造法、重合法、錯体化合物、及びその製造法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
斉藤 武彦 (外1名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1996527670
Publication number (International publication number):1999503113
Application date: Mar. 04, 1996
Publication date: Mar. 23, 1999
Summary:
【要約】(a)支持体物質、有機金属化合物、及び(b)b.1)遷移金属化合物と反応して触媒的に活性な遷移金属錯体を形成しうるカチオン、及びb.2)100以下の非水素原子をもち且つ活性水素部分をもつ少なくとも1の置換基を含有する相容性アニオンからなる活性化剤化合物、からなることを特徴とする支持された触媒成分;支持された触媒成分と遷移金属化合物とからなる支持された触媒;その製造方法;支持された触媒を使用する付加重合法;錯体化合物及びその製造法。
Claim (excerpt):
(a)支持体物質、元素の周期律表の2〜13族、ゲルマニウム、錫及び鉛から選ばれる金属をもつ有機金属化合物、及び(b)b.1)遷移金属化合物と反応して触媒的に活性な遷移金属錯体を形成しうるカチオン、及びb.2)100以下の非水素原子をもち且つ活性水素部分をもつ少なくとも1の置換基を含有する相容性アニオンからなる活性化剤化合物、からなることを特徴とする支持された触媒成分。
IPC (5):
C07F 7/28
, B01J 31/12
, C07F 7/00
, C08F 4/606
, C08F 10/00
FI (5):
C07F 7/28 F
, B01J 31/12 Z
, C07F 7/00 A
, C08F 4/606
, C08F 10/00
Patent cited by the Patent:
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