Pat
J-GLOBAL ID:200903015545465003

PCB類汚染物洗浄排ガスの処理方法およびその装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 萩野 平 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999287006
Publication number (International publication number):2001104749
Application date: Oct. 07, 1999
Publication date: Apr. 17, 2001
Summary:
【要約】【課題】PCB類汚染物の溶剤洗浄時の排ガスを活性炭処理する場合に、活性炭を随時再生し、できる限り長寿命化を図ることができるPCB類汚染物洗浄排ガスの処理方法及びその装置を提供する。【解決手段】 PCB汚染物を溶剤で洗浄し、生じる排ガスを活性炭層に導き吸着させる活性炭吸着工程を有するPCB類汚染物洗浄排ガスの処理方法において、活性炭層を2以上とし、先に吸着工程にあった活性炭層への該排ガス供給を停止し、減圧及び/又は加熱して前記活性炭吸着工程で吸着した物質の一部を脱離させる脱離工程と、該脱離した物質を含む脱離ガスを冷却凝縮させて非凝縮性物質は吸着能力のある別の活性炭層に導いて吸着させる工程を有し、先に吸着工程にあった活性炭層のPCB類汚染物洗浄排ガス吸着能を再生する。
Claim (excerpt):
ポリ塩化ビフェニール類汚染物を溶剤で洗浄し、生じる排ガスを活性炭層に導き吸着させる活性炭吸着工程を有するポリ塩化ビフェニール類汚染物洗浄排ガスの処理方法において、活性炭層を2以上とし、先に吸着工程にあった活性炭層への該排ガス供給を停止し、減圧及び/又は加熱して前記活性炭吸着工程で吸着した物質の一部を脱離させる脱離工程と、該脱離した物質を含む脱離ガスを冷却凝縮させて非凝縮性物質は吸着能力のある別の活性炭層に導いて吸着させる工程を有し、先に吸着工程にあった活性炭層のポリ塩化ビフェニール類汚染物洗浄排ガス吸着能を再生することを特徴とするポリ塩化ビフェニール類汚染物洗浄排ガスの処理方法。
IPC (3):
B01D 53/70 ,  A62D 3/00 ,  B01D 53/34 ZAB
FI (3):
A62D 3/00 ,  B01D 53/34 134 E ,  B01D 53/34 ZAB
F-Term (19):
2E191BA13 ,  2E191BC01 ,  2E191BC05 ,  4D002AA21 ,  4D002AB03 ,  4D002AC10 ,  4D002BA04 ,  4D002BA13 ,  4D002CA07 ,  4D002DA41 ,  4D002DA44 ,  4D002EA04 ,  4D002EA07 ,  4D002EA08 ,  4D002GA01 ,  4D002GA02 ,  4D002GB02 ,  4D002GB03 ,  4D002GB11
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (2)

Return to Previous Page