Pat

J-GLOBAL ID：200903015552236931

光重合性組成物

Inventor： 浦野 年由 ,  長坂 英樹 ,  土山 正明
Applicant, Patent owner： 三菱化成株式会社
Agent (1)： 長谷川 曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994072184
Publication number (International publication number)：1995005685
Application date： Apr. 11, 1994
Publication date： Jan. 10, 1995
Summary：

【要約】【構成】 少なくとも付加重合可能な化合物および光重合開始系を含む光重合性組成物であって、該付加重合可能な化合物が1個以上のエチレン性不飽和二重結合を有しており、かつ、該光重合開始系が特定の骨格を有する増感剤と、該増感剤との共存下光照射時に活性ラジカルを発生し得るチタノセン化合物を含有することを特徴とする。【効果】 本発明の光重合性組成物は、可視光線、特に長波長光線において極めて高感度であり、かつ、現像可視画性に優れる。

Claim (excerpt)：

少なくとも、付加重合可能な化合物および光重合開始系を含む光重合性組成物において、該付加重合可能な化合物がエチレン性不飽和二重結合を少なくとも1個有しており、該光重合開始系が(a) 下記一般式〔I〕で表わされる増感剤【化1】(式中、R1 〜R6 はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、置換もしくは非置換の炭化水素環残基、置換もしくは非置換の複素環残基または-SO3 -R8 を表わし、R8 は水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルカリ金属原子または4級アンモニウムを表わす。R7 は水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、置換もしくは非置換の炭化水素環残基または置換もしくは非置換の複素環残基を表わし、X1 及びX2 はそれぞれハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、置換もしくは非置換の炭化水素残基または置換もしくは非置換の複素環残基を表す。)および(b) 該増感剤との共存下で光照射時にラジカルを発生しうるチタノセン化合物を含有することを特徴とする光重合性組成物。

IPC (6)：

G03F 7/029 ,  G03C 1/675 ,  G03F 7/00 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/027 501 ,  G03F 7/038

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平4-261544
  
• 特開昭63-221110
  
• 特許第5187288号
  
• 特許第4774339号