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J-GLOBAL ID：200903015553973980

放射線感応性組成物

Inventor： ムニラチュナ・パドマナバン ,  木下 義章 ,  船戸 覚 ,  末廣 なつみ ,  岡崎 博 ,  ゲオルグ・パブロウスキ
Applicant, Patent owner： ヘキストインダストリー株式会社
Agent (1)： 池浦 敏明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995211183
Publication number (International publication number)：1997043837
Application date： Jul. 26, 1995
Publication date： Feb. 14, 1997
Summary：

【要約】【課題】 深紫外光線、KrFエキシマレーザー光線等の放射線に対する透過性が高く、これらの光源、電子線、及びX線に露出した時に高感度を有し、優れた耐熱性を有し、時間が経過してもパターンの寸法変化を示さない高精度パターンを得ることができる放射線感応性組成物を提供する。【解決手段】 a)アルキルスルホニルオキシスチレン又はアルキルカルボニルオキシスチレンを含有するヒドロキシスチレン共重合体、b)溶解防止剤又は架橋剤、c)露光により酸を発生する感光性組成物、及びe)溶剤を含む{好ましくは更に、d)感光性塩基、を含む}組成物。

Claim (excerpt)：

a)下記一般式(I)で表わされる共重合体、【化1】(上式中、R1、R2、Ar、X、m及びnはそれぞれ以下のものを表わす。R1:水素原子又はメチル基、R2:アルキル基、アリール基又は置換アリール基、Ar:フェニレン基、シクロヘキシレン基、置換フェニレン基又は置換シクロヘキシレン基、X:-SO2-基又は-CO-基、m、n:1以上の整数。)b)下記一般式(II)で表わされる溶解防止剤、【化2】(上式中、R3〜R5、Y、及びpは、それぞれ以下のものを表わす。R3:アルキル基、アリール基又は置換アリール基、R4:アルキレン基、シクロアルキレン基、アルケニレン基又はアルキニレン基、R5:アルキル基又はシクロアルキル基、Y:-OCO-基、-CO-基又は-NHCO-基、p:1以上の整数。)c)放射線照射に露出することにより酸を発生し得る感光性化合物、e)溶剤を含むことを特徴とするポジ型放射線感応性組成物。

IPC (7)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

FI (7)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R