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J-GLOBAL ID：200903015585063498

化学増幅型ポジレジスト組成物

Inventor： 山中 司 ,  青合 利明 ,  藤森 亨
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996066665
Publication number (International publication number)：1997054437
Application date： Mar. 22, 1996
Publication date： Feb. 25, 1997
Summary：

【要約】【課題】 本発明は、露光-露光後(PEB)間の経時による感度低下や、T-トップ形成及び線巾の細りなどの問題のない良好なレジストを形成することができる化学増幅型ポジレジスト組成物を提供する。【解決手段】 本発明は、(A)第3級アルキルエステル基及び第3級アルキルカーボネート基の中から選ばれる少なくとも1種の基を有し、アルカリ水溶液中での溶解度が酸の作用により増大する化合物、(B)アセタール基及びシリルエーテル基の中から選ばれる少なくとも1種の基を有し、アルカリ水溶液中での溶解度が酸の作用により増大する化合物、(C)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(D)有機塩基性化合物を含有することを特徴とする化学増幅型ポジレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A)第3級アルキルエステル基及び第3級アルキルカーボネート基の中から選ばれる少なくとも1種の基を有し、アルカリ水溶液中での溶解度が酸の作用により増大する化合物、(B)アセタール基及びシリルエーテル基の中から選ばれる少なくとも1種の基を有し、アルカリ水溶液中での溶解度が酸の作用により増大する化合物、(C)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(D)有機塩基性化合物を含有することを特徴とする化学増幅型ポジレジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/30 502 R