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J-GLOBAL ID：200903015624929775
金のノンシアン浴を用いた複合めっき方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
押田 良久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992281005
Publication number (International publication number)：1994108296
Application date： Sep. 25, 1992
Publication date： Apr. 19, 1994
Summary：
【要約】【目的】 金マトリックスにフッ素樹脂を高い共析量で均一に分散した複合めっき層を形成する方法を提供すること。【構成】 微細なフッ素樹脂を添加した伝導塩濃度が150g/l以下、金塩濃度が金として20g/l以下のノンシアン金めっき浴を用いて、電解めっき処理又は無電解めっき処理を行ない、前記フッ素樹脂を分散含有する金めっき層を形成する、金のノンシアン浴を用いて複合めっき処理を行う。その結果、均一に分散した金-フッ素樹脂複合めっき層が得られた。
Claim (excerpt)：
微細なフッ素樹脂を添加した伝導塩濃度が150g/l以下、金塩濃度が金として20g/l以下のノンシアン金めっき浴を用いてめっき処理を行い、前記フッ素樹脂を分散含有する金めっき層を形成することを特徴とする金のノンシアン浴を用いた複合めっき方法。
IPC (2)：
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