Pat

J-GLOBAL ID：200903015633777341

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 丹 史郎 ,  河辺 保雅
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995077869
Publication number (International publication number)：1996272093
Application date： Apr. 03, 1995
Publication date： Oct. 18, 1996
Summary：

【要約】【目的】 高い解像力を有するポジ型フオトレジスト組成物、(2)広いデフォーカスラチチユードを有するポジ型フオトレジスト組成物、更に得られるレジスト像が耐熱性に優れるポジ型フオトレジスト組成物を提供する事にある。【構成】 特定の置換基を有するフェノール化合物と、ホルムアルデヒド及び特定の置換基を有し置換基のうち1つが水酸基さらに1つがホルミル基であるヒドロキシナフトアルデヒド化合物とを縮合させて得られるアルカリ可溶性樹脂と1,2-キノンジアジド化合物を含む。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で示されるフェノール化合物と、ホルムアルデヒド及び下記一般式(2)で示されるヒドロキシナフトアルデヒド化合物とを縮合させて得られるアルカリ可溶性樹脂と1,2-キノンジアジド化合物を含むことを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】ここで、R1 〜R3 :同一でも異なってもよく、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシカルボニル基もしくはアリールカルボニル基、R4 〜R11:同一でも異なってもよく、水素原子、水酸基、ホルミル基、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリール基、もしくはアラルキル基、ただし、R4 〜R11のうち少なくとも1つは水酸基であり、さらに残りの少なくとも1つはホルミル基である。

IPC (3)：

G03F 7/023 511 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/023 511 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/30 502 R