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J-GLOBAL ID:200903015679985704
光学的材料
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
鈴木 郁男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996193722
Publication number (International publication number):1997096702
Application date: Jul. 23, 1996
Publication date: Apr. 08, 1997
Summary:
【要約】【課題】 ディッピング等によるコート法で、透明プラスチック板に少なくとも二層の多層膜をコートすることにより得られ、耐擦傷性、表面硬度、密着強度、及び膜の外観に優れた光学的機能性薄膜、特に反射防止膜或いはハーフミラー膜を提供するにある。【解決手段】 透光性を有するプラスチック基板、該基板上にコートされたハードコート層、及び該ハードコート層上にコートされた金属アルコキシドを主成分とする高屈折率層、及び該高屈折率層上にコートされた有機ケイ素化合物とコロイド状酸化物を主成分とする低屈折率コート層から成り、三層の総膜厚が0.5μm〜10μmの範囲にあることを特徴とする耐擦傷性、表面硬度、密着硬度、及び膜の外観に優れた反射防止膜として有用な光学的材料。
Claim (excerpt):
透光性を有するプラスチック基板、該基板上にコートされたハードコート層、及び該ハードコート層上にコートされた金属アルコキシドを主成分とする高屈折率層、及び該高屈折率層上にコートされた有機ケイ素化合物とコロイド状酸化物を主成分とする低屈折率コート層から成り、三層の総膜厚が0.5μm〜10μmの範囲にあることを特徴とする耐擦傷性、表面硬度、密着硬度、及び膜の外観に優れた反射防止膜として有用な光学的材料。
IPC (3):
G02B 1/11
, G02B 1/10
, G02B 5/00
FI (3):
G02B 1/10 A
, G02B 5/00 C
, G02B 1/10 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
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低反射積層体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-318131
Applicant:帝人株式会社
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