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J-GLOBAL ID：200903015706597266

薄膜磁気ヘッド、磁気ヘッド装置及び磁気ディスク装置

Inventor： 島沢 幸司 ,  小柳 勤 ,  山中 昇
Applicant, Patent owner： ティーディーケイ株式会社
Agent (1)： 阿部 美次郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999259457
Publication number (International publication number)：2001084525
Application date： Sep. 13, 1999
Publication date： Mar. 30, 2001
Summary：

【要約】【課題】 超微小で、かつ、絶縁耐圧の高いシールド間ギャップ長を有する薄膜磁気ヘッドを提供する。【解決手段】 絶縁膜32、33は、第1のシールド膜31及び第2のシールド膜21の間隔を埋めている。読み取り素子3は、絶縁膜32、33の内部に備えられている。絶縁膜32は、金属膜を酸化または窒化して得られた絶縁領域322を含む。絶縁領域322は、第1のシールド膜31及び第2のシールド膜21の少なくとも一方と、読み取り素子3との間に存在する。

Claim (excerpt)：

第1のシールド膜と、第2のシールド膜と、絶縁膜と、少なくとも1つの読み取り素子とを含む薄膜磁気ヘッドであって、前記第1のシールド膜及び前記第2のシールド膜は、互いに間隔を隔てて配置されており、前記絶縁膜は、前記第1のシールド膜及び前記第2のシールド膜の前記間隔を埋めており、前記読み取り素子は、前記絶縁膜の内部に備えられており、前記絶縁膜は、金属膜を酸化または窒化して得られた絶縁領域を含み、前記絶縁領域は、前記第1のシールド膜及び前記第2のシールド膜の少なくとも一方と、前記読み取り素子との間に存在する薄膜磁気ヘッド。

F-Term (4)：

5D034BA02 ,  5D034BA03 ,  5D034BA15 ,  5D034BB08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 磁気抵抗効果型ヘッドおよびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-007939   Applicant：日本電気株式会社