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J-GLOBAL ID：200903015712159319

フェイスマスク

Inventor： 中村 憲司 ,  中村 興司
Applicant, Patent owner： 中村 憲司 ,  中村 興司
Agent (1)： 児玉 喜博
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002195555
Publication number (International publication number)：2004002253
Application date： Jul. 04, 2002
Publication date： Jan. 08, 2004
Summary：

【課 題】折畳み時の折れじわがなく、高粘度の化粧液を均一に含浸でき、使用時に顔面へのフィット感が良く、手へのべとつきや衣服の汚損が防止可能なフェイスマスクの提供。【解決手段】フェイスマスクの基材として、密度が0.05〜0.1g/cm3 及び目付が30〜80g/m2 がセルロース質不織布と、密度が0.09〜0.2g/cm3 及び目付が15〜40g/m2 の合成繊維不織布とが接合されてなるフェイスマスク。【選択図】 図3

Claim (excerpt)：

フェイスマスクの基材として、セルロース質不織布と合成繊維不織布とが接合されてなることを特徴とするフェイスマスク。

IPC (2)：

A61K7/48 ,  A61K7/00

FI (3)：

A61K7/48 ,  A61K7/00 J ,  A61K7/00 K

F-Term (6)：

4C083AD011 ,  4C083AD092 ,  4C083AD261 ,  4C083AD262 ,  4C083CC07 ,  4C083EE07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 美容シート
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-031233   Applicant：東邦レーヨン株式会社
• 湿潤用基材
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-075620   Applicant：旭化成株式会社
• シート状パック
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-261430   Applicant：花王株式会社