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J-GLOBAL ID：200903015734909664

液晶表示素子用高屈折率絶縁被膜形成用塗布液

Inventor：
野上 達哉

About 野上 達哉

, 
酒井 里枝

About 酒井 里枝


Applicant, Patent owner：
日産化学工業株式会社

About 日産化学工業株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992190773
Publication number (International publication number)：1994033000
Application date： Jul. 17, 1992
Publication date： Feb. 08, 1994
Summary：
【要約】【構成】 下記(a)〜(f)より成る、液晶表示素子用高屈折率被膜形成用塗布液。(a)Si(OR)4の加水分解物(b)R1Si(OR2)3の加水分解物(c)Ti(OR4)4(d)Bi,Ce,Y,Zrの金属の塩の少なくとも1種以上(e)析出防止剤(f)有機溶媒【効果】 本発明の塗布液は、撥水性の高いトリアルコキシシランを含むにも拘らず、塗布性及び機械的強度に優れ、屈折率が1.6以上の絶縁被膜を形成可能である。
Claim (excerpt)：
下記(a)〜(d)の各物質を含有し、且つ析出防止剤が有機溶媒に溶解されてなる塗布液において、(a)〜(d)の各物質がモル比で(a)が0〜0.3、(b)が0.3〜0.6、(c)が0〜0.2、(d)が0.2〜0.5の範囲にある液晶表示素子用高屈折率絶縁被膜形成用塗布液。(a) 下記一般式〔1〕で示されるテトラアルコキシシランの加水分解物Si(OR)4 〔1〕(Rは炭素数1〜5のアルキル基を表す。)(b) 下記一般式〔2〕で表されるトリアルコキシシランと加水分解物R1Si(OR2)3 〔2〕(R1 は置換基を有する事もあるアルキル基、アルケニル基、アリール基を表し、R2 は炭素数1〜5のアルキル基を表す。)(c) 下記一般式〔3〕で示されるテトラアルコキシチタンTi(OR4)4 〔3〕(R4 は炭素数1〜5のアルキル基を表す。)(d) Bi、Ce、Y、Zrの金属の金属塩の少なくとも1種以上
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
  • 特開昭63-146969
  • 特開昭63-130674
  • 特開平2-258646
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