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J-GLOBAL ID：200903015741459372
ポジ型感光性組成物
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
長谷川 曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996330863
Publication number (International publication number)：1998171112
Application date： Dec. 11, 1996
Publication date： Jun. 26, 1998
Summary：
【要約】【課題】 遠紫外領域の光を用いたハーフミクロンリソグラフィーに対応できる高解像力を有し、しかも反射率の高い基板や段差のある基板上で、レジストの解像性を保ちつつ反射光の影響を抑えることができる化学増幅型ポジ感光性組成物を提供する。【解決手段】 フェノール性水酸基含有アルカリ可溶性樹脂または該水酸基が酸不安定基で保護された樹脂及び光酸発生剤を含有するポジ型感光性組成物に於て、光吸収剤として下記構造式(I)、(II)及び(III)から選ばれる少なくとも1種の部分構造を有する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。【化1】(ただし、Xはアルキレン基またはフェニレン基を表わし、Yはメチレン基、C1以上C10以下のアルキル基で置換されたメチレン基またはジアゾメチレン基を表わす。)
Claim (excerpt)：
フェノール性水酸基含有アルカリ可溶性樹脂または該水酸基が酸不安定基で保護された樹脂及び光酸発生剤を含有するポジ型感光性組成物に於て、光吸収剤として下記構造式(I)、(II)及び(III)から選ばれる少なくとも1種の部分構造を有する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。【化1】(ただし、Xはアルキレン基またはフェニレン基を表わし、Yはメチレン基、C1以上C10以下のアルキル基で置換されたメチレン基またはジアゾメチレン基を表わす。)
IPC (5)：
G03F 7/004 506
, G03F 7/004 503
, G03F 7/039 501
, G03F 7/039 601
, H01L 21/027
G03F 7/004 506
, G03F 7/004 503 A
, G03F 7/039 501
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
