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J-GLOBAL ID：200903015769994079
電子線リソグラフィを用いる回折格子製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
三俣 弘文
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993342035
Publication number (International publication number)：1994265709
Application date： Dec. 14, 1993
Publication date： Sep. 22, 1994
Summary：
【要約】【目的】 直接描画電子線リソグラフィとホログラフィ露光とを用いて、光電子構造物に回折格子を形成する技術を提供する。【構成】 直接描画電子線リソグラフィを用いて、マスク基板に矩形回折格子歯が形成される。ついで、マスクは、矩形回折格子パターンを光電子素子に転写する位相マスクとして使用される。フォトマスクに矩形回折格子パターンを形成するために直接描画電子線リソグラフィを利用すれば、所望の数と位置とを有する階段移相、多格子ピッチ、アラインメント基準および他の所望の構造を形成することが可能となる。したがって、直接描画電子線マスクの1回露光で、種々の格子パターンを同時に焼付けすることができる。
Claim (excerpt)：
光電子素子に所定の格子構造を製造する方法において、a) 直接描画電子線リソグラフィにより形成された回折格子パターンを含むフォトマスクを供給し、回折格子パターンは、所望の数と位置との階段移相と所望複数の格子ピッチとからなるステップと、b) 透過ビームと第1次回折ビームとを形成するのに十分な所定角θi でフォトマスクに光を照射するステップと、c) フォトレジスト内に回折格子パターンを複製する近視野強度パターンを、透過ビームと第1次回折ビームとが干渉することにより形成するように、フォトレジスト被覆電子素子基板を露光するステップと、d) フォトレジストを現像し、回折格子パターンを下層の光電子素子基板に転写するステップとからなる電子線リソグラフィを用いる回折格子製造方法。
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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