Pat
J-GLOBAL ID:200903015782718404
欠陥検査方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007315556
Publication number (International publication number):2009139209
Application date: Dec. 06, 2007
Publication date: Jun. 25, 2009
Summary:
【課題】被検査体の周期性パターンにおけるムラの有無を容易に判定し、擬似欠陥をスジ状ムラ欠陥として判定しないこと。【解決手段】周期性パターンを有する被検査体のスジ状ムラを検出するための欠陥検査方法であって、 被検査体に光源からの光を照射することで生じる回折光の強度分布の取得を複数の照明角度で行い、各照明角度における回折光の強度分布を検査画像として取得し、 取得された被検査体への照明角度が異なる複数枚の検査画像に対し、照明角度の異なる複数の検査画像を比較し、前記被検査体への照射角度に応じて位置が変化するスジ状ムラと変化しないスジ状ムラとを抽出し、その変化するスジ状ムラを検査の際に欠陥としない擬似欠陥とし、その変化しないスジ状ムラを検査の際に欠陥として選別し、 欠陥として選別されたスジ状ムラに対し、それぞれの輝度と面積に基づいて欠陥規模の評価を行う欠陥検査方法。【選択図】図4
Claim (excerpt):
周期性パターンを有する被検査体のスジ状ムラを検出するための欠陥検査方法であって、
被検査体に光源からの光を照射することで生じる回折光の強度分布の取得を複数の照明角度で行い、各照明角度における回折光の強度分布を検査画像として取得する撮像工程と、
前記撮像工程によって取得された被検査体への照明角度が異なる複数枚の検査画像に対し、照明角度の異なる複数の検査画像を比較し、前記被検査体への照射角度に応じて位置が変化するスジ状ムラと変化しないスジ状ムラとを抽出し、その変化するスジ状ムラを検査の際に欠陥としない擬似欠陥とし、その変化しないスジ状ムラを検査の際に欠陥として選別する擬似欠陥抽出工程と、
前記擬似欠陥抽出工程によって欠陥として選別されたスジ状ムラに対し、それぞれの輝度と面積に基づいて欠陥規模の評価を行うスジ状ムラ欠陥評価工程と、
を含むことを特徴とする欠陥検査方法。
IPC (2):
FI (2):
G01N21/956 Z
, G01B11/30 A
F-Term (29):
2F065AA49
, 2F065AA58
, 2F065BB02
, 2F065EE00
, 2F065FF04
, 2F065FF44
, 2F065FF48
, 2F065HH03
, 2F065HH14
, 2F065JJ19
, 2F065JJ26
, 2F065LL22
, 2F065QQ24
, 2F065QQ25
, 2F065QQ31
, 2G051AA51
, 2G051AA56
, 2G051AB02
, 2G051AB07
, 2G051AC21
, 2G051BB01
, 2G051CA04
, 2G051CB06
, 2G051EA16
, 2G051EA25
, 2G051EC06
, 2G051ED04
, 2G051ED11
, 2G051ED14
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
-
周期性パターンのムラ検査方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-345557
Applicant:大日本印刷株式会社
-
周期性パターンのムラ検査方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-161070
Applicant:大日本印刷株式会社
-
周期性パターンのムラ検査装置及びムラ検査方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-091946
Applicant:凸版印刷株式会社
Return to Previous Page