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J-GLOBAL ID：200903015793067634
レーザプラズマX線源
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992092829
Publication number (International publication number)：1993290993
Application date： Apr. 13, 1992
Publication date： Nov. 05, 1993
Summary：
【要約】【目的】 レーザプラズマX線源において、標的物質の交換回数を減らして長時間の使用を可能にする。【構成】 標的物質1を帯状に形成してこれを任意の方向に巻き取ることが可能な巻取り手段2、3、4、5と、標的物質1を巻取り方向と直交に移動させる移動手段7とを設けた。そして、レーザ光8の照射位置に対して1つの標的物質1を複数回往復移動させてX線を発生させるようにした。
Claim (excerpt)：
レーザ光を標的物質上に照射して該標的物質をプラズマ化し、該プラズマからX線を発生させるレーザプラズマX線源において、帯状に形成された標的物質、該標的物質を任意の方向に巻き取ることができる巻取り手段、および前記標的物質を該標的面内において巻取り方向とほぼ直交に移動させる移動手段とを備えたことを特徴とするレーザプラズマX線源。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)
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特開平3-263893
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特開昭62-145790
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特開昭64-006349
Cited by examiner (7)
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