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J-GLOBAL ID:200903015833446528
水素リッチガスの製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
江崎 光史 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996189590
Publication number (International publication number):1997118501
Application date: Jul. 18, 1996
Publication date: May. 06, 1997
Summary:
【要約】【課題】 ジメチルエーテルおよびスチームからなるフィードストックから水素リッチガスを製造する方法を提供する。【解決手段】 固定床反応器中に物理的な混合物として配置された固体酸からなる群から選択されたエーテル水和触媒およびメタノール分解触媒の存在下に、ジメチルエーテルをスチームと反応させる。
Claim (excerpt):
ジメチルエーテルおよびスチームからなるフィードストックから水素リッチガスを製造する方法において、固定床反応器中に物理的な混合物として配置された固体酸類からなる群から選択されたエーテル水和触媒およびメタノール分解触媒の存在下に、ジメチルエーテルをスチームと反応させることを特徴とする上記方法。
IPC (3):
C01B 3/40
, B01J 29/14
, B01J 29/46
FI (3):
C01B 3/40
, B01J 29/14 M
, B01J 29/46 M
Patent cited by the Patent:
Article cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
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無機化学全書X-1-1 アルミニウムA1, 19750531, P192
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