Pat

J-GLOBAL ID：200903015843016424

多孔質高分子膜の製造方法

Inventor： 酒井 一成 ,  張 ▲こ▼生 ,  穴澤 孝典
Applicant, Patent owner： 大日本インキ化学工業株式会社
Agent (1)： 高橋 勝利
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992068421
Publication number (International publication number)：1993271460
Application date： Mar. 26, 1992
Publication date： Oct. 19, 1993
Summary：

【要約】【構成】エネルギー線の照射により重合可能なモノマーおよび/またはオリゴマー(A)と、該モノマーおよび/またはオリゴマー(A)と相溶し、該モノマーおよび/またはオリゴマー(A)にエネルギー線を照射することにより生成したポリマーと相溶せず、かつエネルギー線に対して不活性なオリゴマー(B)又はとポリマー(C)を混合した均一な重合性液体にエネルギー線を照射した後、該オリゴマー(B)又はポリマー(C)を除去することを特徴とする多孔質高分子膜の製造方法。【効果】本発明の製造方法により得られる多孔質高分子膜は、架橋構造を有する為、強度、耐クリープ性、耐熱性、耐薬品性に優れるという特徴を有する。また100cps以上の高粘度の重合性溶液が得られるため、中空糸状の多孔質膜、不織布、布、紙等の多孔性支持体に裏打ちされた多孔質膜を容易に製造できるという特徴を有する。

Claim (excerpt)：

エネルギー線の照射により重合可能なモノマーおよび/またはオリゴマー(A)と、該モノマーおよび/またはオリゴマー(A)と相溶し、該モノマーおよび/またはオリゴマー(A)にエネルギー線を照射することにより生成したポリマーと相溶せず、かつエネルギー線に対して不活性なオリゴマー(B)とを混合した均一な重合性液体にエネルギー線を照射した後、該オリゴマー(B)を除去することを特徴とする多孔質高分子膜の製造方法。

IPC (4)：

C08J 9/26 102 ,  B01D 39/16 ,  B01D 67/00 500 ,  C08J 9/28