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J-GLOBAL ID：200903015871921329

酸化インジウム系粒子、その製造方法および用途

Inventor： 武田 光生 ,  上田 弓子
Applicant, Patent owner： 株式会社日本触媒
Agent (1)： 松本 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000300773
Publication number (International publication number)：2002114516
Application date： Sep. 29, 2000
Publication date： Apr. 16, 2002
Summary：

【要約】【課題】 酸化インジウムに異種金属を添加することによって熱線遮蔽性等の特性を付与してなる、新規な酸化インジウム系粒子と、その製造方法および用途を提供する。【解決手段】 酸化インジウム系粒子は、Ti、Zr、Hf、Si、Ge、Pb、P、Sb、V、NbおよびTaから選ばれた少なくとも1種の異種金属(Md)をIn2 O3 に添加してなる酸化インジウム系粒子であって、異種金属の含有率(Md/In)が0.1〜20原子%であり、かつ、前記酸化インジウム系粒子を1m2 当たり酸化物換算で6g含む塗膜に波長1.5μmの光を照射した時の透過率が40%以下であることを特徴とする。その製造方法は、水への溶解度(25°C)が25重量%以下のアルコールを溶媒とし、インジウム化合物および/または加水分解縮合物と異種金属(Md)の化合物とを含有するアルコール溶液を加熱して酸化インジウム系粒子を析出させる方法である。

Claim (excerpt)：

Ti、Zr、Hf、Si、Ge、Pb、P、Sb、V、NbおよびTaから選ばれた少なくとも1種の異種金属(Md)をIn2 O3 に添加してなる酸化インジウム系粒子であって、異種金属の含有率(Md/In)が0.1〜20原子%であり、かつ、前記酸化インジウム系粒子を1m2 当たり酸化物換算で6g含む塗膜に波長1.5μmの光を照射した時の透過率が40%以下であることを特徴とする、酸化インジウム系粒子。

IPC (5)：

C01G 15/00 ,  C09D 5/33 ,  C09D 7/12 ,  C09D201/00 ,  G02B 5/22

FI (5)：

C01G 15/00 B ,  C09D 5/33 ,  C09D 7/12 ,  C09D201/00 ,  G02B 5/22

F-Term (38)：

2H048CA04 ,  2H048CA05 ,  2H048CA09 ,  2H048CA12 ,  2H048CA20 ,  4J038AA01 ,  4J038BA011 ,  4J038BA221 ,  4J038BA231 ,  4J038CA021 ,  4J038CB101 ,  4J038CB171 ,  4J038CD091 ,  4J038CG001 ,  4J038CM031 ,  4J038CR011 ,  4J038DA021 ,  4J038DA031 ,  4J038DA101 ,  4J038DA111 ,  4J038DB001 ,  4J038DD001 ,  4J038DD121 ,  4J038DD181 ,  4J038DG001 ,  4J038DH001 ,  4J038DL031 ,  4J038HA216 ,  4J038HA446 ,  4J038HA456 ,  4J038KA20 ,  4J038LA02 ,  4J038NA15 ,  4J038NA17 ,  4J038PB08 ,  4J038PC03 ,  4J038PC04 ,  4J038PC08