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J-GLOBAL ID：200903015974271349

化粧料

Inventor： 今井 一康 ,  梶原 泰 ,  喜多 克己
Applicant, Patent owner： 花王株式会社
Agent (1)： 有賀 三幸 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991293067
Publication number (International publication number)：1993124928
Application date： Nov. 08, 1991
Publication date： May. 21, 1993
Summary：

【要約】【構成】 一般式(1)で表わされるホスホベタインを含有する化粧料。【化1】〔式中、Zは単糖、オリゴ糖、糖アルコール又はグリセリン由来の残基を示し、R1、R2及びR3のうち少なくとも1つは炭素数5〜24のアルキル基もしくはアルケニル基、又は炭素数1〜4のヒドロキシアルキル基もしくはヒドロキシアルケニル基を示す〕【効果】 この化粧料は、優れた保湿効果を有し、その効果は汗や水洗等により損なわれにくく、かつ皮膚や毛髪に対してべとつかず、しっとりとした感触とともに柔軟性を付与するものであり、特に洗い流して用いるタイプのリンス、ボディリンスとして好適である。

Claim (excerpt)：

一般式(1)で表わされるホスホベタインを含有することを特徴とする化粧料。【化1】R1、R2及びR3のうち少なくとも1つは炭素数5〜24のアルキル基もしくはアルケニル基、又は炭素数1〜4のヒドロキシアルキル基もしくはヒドロキシアルケニル基を示し、残余は同一又は異なって水素原子又は水酸基を有していてもよい直鎖もしくは分岐鎖の炭素数1〜24のアルキル基もしくはアルケニル基を示す。M1及びM2は同一又は異なって水素原子又は陽イオンを示し、mは0以上の数を示し、nは1以上の数を示す。但し、m+nは単糖、オリゴ糖、糖アルコール又はグリセリンがそれぞれ有する水酸基の数を超えない。〕

IPC (4)：

A61K 7/00 ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/08 ,  A61K 7/50