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J-GLOBAL ID：200903015979745373

赤外線吸収材料及びその製造方法

Inventor： 田島 真治 ,  中曽根 聡
Applicant, Patent owner： 大日本印刷株式会社
Agent (1)： 塩澤 寿夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995232129
Publication number (International publication number)：1996209110
Application date： Sep. 11, 1995
Publication date： Aug. 13, 1996
Summary：

【要約】【課題】 赤外領域にのみ吸収を持ち、可視光領域では吸収を行わないYbPO4 (リン酸イッテルビウム)であって、近赤外領域での吸収特性に優れ、かつインキへの馴染みが良好で、薄い印刷層にも対応できる微細粒子状赤外線吸収材料、その製造方法、インキ、および不可視パターンの提供。【解決手段】 結晶性が高く、粒子径が0.5μm以下であるYbPO4 粒子からなる赤外線吸収材料。イッテルビウムアルコキシドとリン酸アルコキシドとを加水分解してYbPO4 粒子を生成させる上記赤外線吸収材料の製造方法。結晶性が高く、粒子径が0.5μm以下であり、カップリング剤で表面処理したYbPO4 粒子からなる赤外線吸収材料。イッテルビウムアルコキシドとリン酸アルコキシドとを加水分解して生成したYbPO4 粒子とカップリング剤とを反応させる上記赤外線吸収材料の製造方法。前記赤外線吸収材料及びインキビヒクルを含有するインキ。前記赤外線吸収材料を含有する不可視パターン及び不可視情報パターン。

Claim (excerpt)：

結晶性が高く、粒子径が0.5μm以下であるYbPO4 粒子からなることを特徴とする赤外線吸収材料。

IPC (3)：

C09K 3/00 105 ,  C01B 25/37 ,  C01G 17/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 赤外線吸収材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-215067   Applicant：大日本印刷株式会社