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J-GLOBAL ID：200903016018645792

ナノ細孔構造をもつNi多孔質体の製造方法

Inventor： 服部 義之 ,  加納 博文 ,  金子 克美
Applicant, Patent owner： 科学技術振興事業団
Agent (1)： 小倉 亘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002037761
Publication number (International publication number)：2003239028
Application date： Feb. 15, 2002
Publication date： Aug. 27, 2003
Summary：

【要約】【目的】 触媒,吸着剤,ガス吸蔵材,コンデンサ,選択透過膜等の機能材料として有用なナノ細孔構造をもつNi多孔質体を得る。【構成】 このNi多孔質体は、ポリビニルアルコールのフィルムにニッケル化合物を分散吸着させた後、還元性又は非酸化性雰囲気中で加熱することによりポリビニルアルコールフィルムを消失させると共にニッケル化合物を金属Niに還元することにより製造される。ポリビニルアルコールは鹸化度80%以上,数平均分子量500〜20000のものが好ましく、ニッケル化合物には、酢酸ニッケル,蓚酸ニッケル,酪酸ニッケル等の有機酸塩や硫酸ニッケル,硝酸ニッケル,塩化ニッケル,リン酸ニッケル等の無機酸塩が使用される。

Claim (excerpt)：

ポリビニルアルコールの乾燥フィルムにニッケル化合物を分散吸着させた後、還元性又は非酸化性雰囲気中で加熱することによりポリビニルアルコールフィルムを消失させると共にニッケル化合物を金属Niに還元することを特徴とするナノ細孔構造をもつNi多孔質体の製造方法。

IPC (5)：

C22C 1/08 ,  B01D 71/02 500 ,  B01J 20/02 ,  B01J 23/755 ,  H01M 8/04

FI (5)：

C22C 1/08 D ,  B01D 71/02 500 ,  B01J 20/02 A ,  H01M 8/04 J ,  B01J 23/74 321 M

F-Term (46)：

4D006GA41 ,  4D006MA26 ,  4D006MA27 ,  4D006MB03 ,  4D006MC02X ,  4D006NA51 ,  4D006NA63 ,  4D006PB18 ,  4G066AA02B ,  4G066AA10D ,  4G066AA53A ,  4G066AC02D ,  4G066BA23 ,  4G066BA24 ,  4G066BA31 ,  4G066CA38 ,  4G066FA12 ,  4G066FA17 ,  4G066FA34 ,  4G069AA02 ,  4G069AA08 ,  4G069BA21C ,  4G069BA22C ,  4G069BB02A ,  4G069BB02B ,  4G069BB08C ,  4G069BB10C ,  4G069BB12C ,  4G069BB14C ,  4G069BC68A ,  4G069BC68B ,  4G069BC68C ,  4G069BD12C ,  4G069BE06C ,  4G069BE08C ,  4G069EC03Y ,  4G069EC06Y ,  4G069EC18Y ,  4G069FA01 ,  4G069FB36 ,  4G069FB44 ,  4G069FC02 ,  4G069FC03 ,  4G069FC07 ,  5H027AA02 ,  5H027BA14