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J-GLOBAL ID：200903016027807533

放射線不融化によるセラミック複合材料の製造方法

Inventor： 杉本 雅樹 ,  瀬口 忠男 ,  森田 洋右 ,  岡村 清人
Applicant, Patent owner： 日本原子力研究所
Agent (1)： 社本 一夫 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997294316
Publication number (International publication number)：1999130552
Application date： Oct. 27, 1997
Publication date： May. 18, 1999
Summary：

【要約】【課題】 低放射化材料として核融合炉内壁などへの応用が期待されている高純度、高強度、高耐熱性のセラミック複合材料を作製する製造方法。【解決手段】 有機ケイ素系高分子であるポリカルボシラン、環状ポリシラザン及び/又はポリビニルシランを強化繊維である炭化ケイ素繊維織布または炭化ケイ素短繊維に含浸させた後に成形体とし、これに電離放射線を照射して不融化し、この放射線照射不融化成形体を不活性ガス中で焼成してセラミック化してセラミック強化繊維/セラミックマトリックス複合体を作製する。この有機ケイ素系高分子には、炭化ケイ素結晶粉末や窒化ケイ素結晶粉末、または、遷移金属と炭素、窒素、ほう素からなる高融点化合物の粉末を加えることができる。

Claim (excerpt)：

有機ケイ素高分子であるポリカルボシランを強化繊維である炭化ケイ素繊維織布または炭化ケイ素短繊維に含浸させた後、成形体とし、これに電離放射線を照射して不融化し、この放射線照射不融化成形体を不活性ガス中で焼成してセラミック化して、セラミック強化繊維/セラミックマトリックス複合体(以下セラミック複合材)を作製する方法。

FI (2)：

C04B 35/80 C ,  C04B 35/80 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭64-087582
  
• 特開平1-115877
  
• 特開平3-008768
  
• 特開平4-194028